关于半导体超纯水设备 科技繁复工艺皆为纯净

伴随着工业技术网络技术的不断提高，大家都对半导体行业都有着较大的认知，但是对于半导体生产至关重要的超纯水设备却了解的非常少。在复杂的芯片及半导体材料等高精尖技术发展中，纯水处理设备生产厂家为其起到了非常大的助力。当芯片的精密度越来越高,超纯水作为生产环节中的关键角色,对水质纯度的要求也越来越高。不同的制备技术也在迅速的发展起来，已成为工业用水广泛的应用于一个核心门类。

另外硅片生产的湿法工艺采用腐蚀性和氧化性的化学溶剂进行喷雾、擦洗、蚀刻和溶解随机缺陷,使硅片表面的杂质与溶剂发生化学反应生成可溶性物质、气体或直接脱落,必须利用超纯水清洗硅片表面并进行干燥,才可以获得满足洁净度要求的硅片。

由此可见，生产芯片的用水并非日常可见的自来水,或者是纯净水,半导体工厂生产和清洗半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示器、高精度电路板、光电器件等各种电子器件的时候,都需要用到电阻率为18兆欧以上的超纯水,这样的超纯水几乎不导电,不会影响电子产品的性能,同时水中几乎不含金属离子,不会对复杂芯片表面造成划痕或者不可逆的影响。当集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也就越高。

半导体行业对超纯水的指标要求极高,特别是晶圆制造,除了电阻率外,还集中反映在总有机碳、溶解气体、颗粒物、菌群落、溶解气、金属离子、硅元素、硼元素等参数上(具体数据参考高频科技超纯水系统水质指标)

可想而知,超纯水的指标要求越高,背后的制备工艺也越为繁复,对超纯水系统的要求也更为严苛。