超纯水中溶解氧对半导体制造的重要性

在半导体工业不断发展的今天，超纯水机所制取的水被完全融入到各个化学处理以及化学冲洗等多个步骤中。生产过程中为了消除感染物，准备生产处理所需的表面，晶片通常需要充分的清洗。取决于生产类型方面的不同，这些水处理过程可以看整个生产处理步骤的3/1.一个厂每月生产的晶片有4万个左右，每天所用掉的水就会有7~11百万立方的水，其中超纯水所占的比例就有70%。

超纯水为什么主要测量的是溶解氧和臭氧呢？

1、减少超纯水的污染程度。

2、能够有效的增长半导体的产出效果。

3、在臭氧过程中，因为臭氧应用不需要污染物，所以必须保持一部分的浓度。

实验室超纯水机的应用主要在以下几个关键点：

感染微生物会在半导体表面造成不利的电路，造成短路且形成无法使用的芯片。

有机物所留下的粒子会对生产过程以及芯片质量造成一定的影响。

过高的溶解氧会潜入改变氧化面的厚度，从而改变集成电路板的特性。
当放入水中的晶体时，溶解氧会使其厚度增加，因而浓度需要降低的能够接受的范畴。

当芯片的晶体管密度增加，晶体管的宽度就会降低，水质要求就会变得尤为重要。常规来说微型芯片被装入越小的设备，给生产商带来的挑战也就越大，包括超纯水提供的关键要素。近几年工业技术也是越来越快速，纯净要求也在不断的提升，尽量减少产后的问题，因而发展趋势减少超纯水中有机物和无机污染，就显得非常重要，需要保持溶解氧的浓度在0.1~1.0PPB之间。